热烈欢迎参加nanoRoadshow：表面的下一级质量控制
NanoRoadshow ：表面的下一级质量控制
2021年9月17日上午11点至中午12点，将开展纳米技术/网络纳米分析集群的nanoRoadshow活动。
NanoRoadshow活动展示了工业和研究中的具体产品和应用案例，并通过Sensofar的光学测量系统与Nanosurf的原子力显微镜相结合作出回应。从我们的专家处获得解决方案的灵感，以解决您在安全技术、医疗技术、电子、生产控制、纳米测量和涂层等领域表面测量方面的问题。我们恭候您的参与！
主讲人是德国和奥地利公司的销售经理Jakob Mallmann和来自Nanosurf的Marcus Weth.
专门设计的功能性表面是大量创新产品的前提条件。表面介导的产品特性范围广泛，从耐磨性到防腐蚀性、增加的导电性、抗微生物活性和伪造保护。
现代的表面分析方法使得能够研究机械、电气、物理和形态表面特性，乃至亚显微镜或甚至原子范围。因此，表面分析不单能够支持产品开发，而且在过程控制和质量保证中也是必不可少的。甚至可以用来检测材料、工件和部件中的轻微污染和缺陷。
基于共聚焦,干涉,多焦面叠加技术,反射测定法和条纹投影技术的3D光学轮廓仪适用于测量表面粗糙度和识别缺陷。这种光学测量技术的优点是速度快，且具有较大样本区域的良好视野。利用原子力显微镜可以获得低至个位数纳米范围的更高横向分辨率，以及关于机械和电学性质的详细信息。这两种技术的每一种都有其具体的优势，并且与另一种方法的局限性互补。创新地将这两种测量方法组合起来，全新的问题也迎刃而解。
“要了解有关表面下一级质量控制的更多信息，我们期待您在活动之后参加中午12点至下午12点30分的线上咖啡会谈。”
