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新型 S neox 在性能、功能、效 率和设计方面优于现有的 3D光 学轮廓仪,是Sensofar 的新一 代高端测量系统。

Topography in a quality process

惊人的测量速度

通过采用新的智能和独特的算法以及新型相机,达到惊人的测量速度。数据采集速度达 180 fps。标准测量采集速度比以前快 5 倍。S neox 成为市场上速度极快的表面测量系统。

易于使用

Sensofar 致力于为客户提供最令人难以置信的体验。随着第五代 S neox 系统的诞生,我们的目标是使其易于使用、直观且更快速。即使是初学者,只需点击一下,即可操作测量。模块化设计的软件,使系统适应用户多样的需求。

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功能灵活多样

质量管理

质量管理

丰富的自动化模块,方便进行质
量管控。从操作员访问权限控制、测量程序存储、兼容性到条形码/QR 读取器,以及我们专有 SensoPRO 软件中的定制插件,都可以自动生成分析报告。我们的优化解决方案能够在 QC 环境中工作,其具有灵活性和易于使用的界面,可编程并24小时工作。

研发

研发

Sensofar 的三合一方法—只需点击一次,系统即可切换到适合当前测量任务的扫描模式。在 S neox 传感器头中配置三种测量技术—共聚焦、干涉、Ai 多焦面叠加—这些都为系统的多功能性做出了重要贡献,并有助于非常有效地减少数据采集中的噪点。S neox 是所有实验室环境的理想之选,适用范围广泛。

四合一技术

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Ai 多焦面叠加NEW!

主动照明多焦面叠加是一种为了测量大粗糙表面形状而开发的光学技术。这项技术基于 Sensofar 在共聚焦和干涉 3D 测量领域的广泛专业知识,专门设计用于补充低放大率下的测量。通过使用主动照明,即使在光学平滑的表面上也能获得更可靠的测量数据,这一点已经得到了改进。该技术的亮点包括高斜率表面(高达 86º),更快的速度(mm/s)和较大的垂直范围测量。

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共聚焦

共聚焦轮廓仪的开发目的是,测量从光滑表面到非常粗糙表面的表面高度。共聚焦轮廓提供更佳的横向分辨率,可达 0.14μm 水平分辨率,空间采样可减少到 0.01μm,这是关键尺寸测量的理想选择。高达NA (0.95) 和放大倍率(150X) 的物镜可用于测量局部斜率超过 70°的光滑表面。对于粗糙表面,可允许 86°。独家的共聚焦算法提供了纳米尺度上的垂直重复性。

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干涉

光学干涉利用参考和样本上产生的两束反射光在零光程差时产生干涉的现象来生成三维干涉图样(干涉图),包含样本表面形貌上的信息。该方式的各种变化可用于具体不同的应用。

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薄膜

薄膜测量技术快速、准确、无损地测量光学透明层的厚度,且不需要样品制备。该系统获取可见光范围内样品的反射光谱,并与软件计算的模拟光谱进行比较,准确地找到匹配的厚度。可以在不到一秒钟的时间内测量出 50nm 到 1.5μm 的透明膜。测量光斑取决于物镜放大率,范围从0.5μm到40μm。

Reflectometry thin Film analysis

LED光源的优势

用LED做照明光源要比用激光更有优势。首先LED光源可以避免发生激光光源的散斑现象。其次LED光源的使用寿命约50000小时(约25倍于激光)。最重要的是多个LED就意味着可以根据样品的需求选择最适合的波长来测量。

3D optical metrology techniques Microdisplay Image

可追溯的精确测量

每一台SNEOX都是为了实现精确且可追溯地测量。我们的设备使用符合ISO25178中的Part 700和Part 600标准的可追溯标准块进行校正。所有的指标,包括高度及水平精度、平面度偏差、系统分辨率等都以测量此类标准块而得到。我们坚持所有的测量设备按照此标准执行。

Optical Profilometer S neox Validation package
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SNEOX出厂前都采用已计量、可追溯的标准块做校正,并且确认符合标准才会出厂。同时SENSOFAR会随设备附上测量精度和重复性的检测报告

高分辨率

垂直分辨率受到仪器噪声的限制,仪器噪声对于干涉测量是固定的,但共聚焦测量依赖的数值孔径。Sensofar 专有算法以光学仪器更佳的横向分辨率为测量技术提供纳米级系统噪声。所示的形貌是亚纳米 (0.3 nm) 原子层。由 PTB 提供。

Topography of subnanometer atomic layer
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DIC 观察

微分干涉 (DIC) 用于强调在正常观察中没有对比度的非常小的高度特征。通过使用 Nomarski 棱镜,产生了干涉图像,解决了在明视场或共聚焦图像中不可见的亚纳米级结构。

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