Sensofar Vorstellung wegweisender Arbeiten auf SPIE 23
Bei Sensofar verkünden wir stolz die Vorstellung von zwei bahnbrechenden wissenschaftlichen Arbeiten, die von unseren Teammitgliedern Narcís Vilar und Lena Zhukova entwickelt wurden. Die Arbeiten mit den Titeln „Robuste Messung der Oberflächentopographie für additive Fertigung mit Hilfe der bildgebenden konfokalen Mikroskopie“ von Narcís Vilar und „Computergestützte Selbstkorrektur von Scannenonlinearitäten in der optischen Profilometrie“ von Lena Zhukova werden auf der mit Spannung erwarteten SPIE Optical Metrology 23 in München präsentiert.
Robuste Messung der Oberflächentopographie für die additive Fertigung unter Verwendung der bildgebenden konfokalen Mikroskopie
Autor(en): Narcís Vilar, Roger Artigas, Sensofar-Tech, S.L. (Spanien); Martí Duocastella, Univ. de Barcelona (Spanien); Guillem Carles Santacana, Sensofar-Tech, S.L. (Spanien)
27 Juni 2023 • 10:50 – 11:10 CEST | ICM Raum 14c
Narcis Vilars Arbeit präsentiert ein optimiertes optisches System zur Messung der Oberflächentextur von Teilen, die mittels additiver Fertigung hergestellt werden. Das System verfügt über ein großes Sichtfeld und eine hohe numerische Apertur, um Herausforderungen durch Oberflächenunebenheiten und Variationen in der Reflexion zu bewältigen. Durch die Integration eines handelsüblichen Objektivs mit einer maßgeschneiderten Tubuslinse wird eine Vergrößerung und eine effektive numerische Apertur erreicht, die für die Charakterisierung von Teilen der additiven Fertigung geeignet ist. Das System verwendet die konfokal-ähnliche HiLo-Technik und charakterisiert Metallteile der additiven Fertigung erfolgreich. Die Gestaltung eines Mikroskopobjektivs mit verbesserten Leistungsmöglichkeiten wird ebenfalls diskutiert. Darüber hinaus ermöglicht der Einsatz von High-Dynamic-Range (HDR)-Ansätzen, bei denen mehrere Low-Dynamic-Range-Bilder kombiniert werden, die Rekonstruktion einer einzelnen Topographiekarte zur Bewältigung von Reflexionsvariationen. Insgesamt bestätigt die Arbeit, wie dieses optische System mit seiner breiten räumlichen Abdeckung von Merkmalen und seiner HDR-Fähigkeit eine vielseitige Lösung bietet, die in verschiedenen wissenschaftlichen und industriellen Kontexten anwendbar ist.
Computergestützte Selbstkorrektur von nichtlinearen Abweichungen beim optischen Profilometrie-Scannen
Autor(en): Lena Zhukova, Roger Artigas, Guillem Carles Santacana, Sensofar-Tech, S.L. (Spanien)
27 Juni 2023 • 12:30 – 12:50 CEST | ICM Raum 14c
Lena Zhukovas Arbeit konzentriert sich auf eine rechnergestützte Methode zur Reduzierung von Nichtlinearitäten bei optischen Profilometern, die motorisierte Linearantriebe für das Scannen verwenden. Durch die Analyse von zwei Topographien, die durch einen bekannten Versatz voneinander getrennt sind – der aus einem einzigen Scan extrahiert werden kann -, prognostiziert und eliminiert der Algorithmus Fehler im Positioniersystem und erhöht so die Messgenauigkeit erheblich. Diese kostengünstige Lösung bietet einen praktischen und effektiven Weg, um Nichtlinearitätsprobleme bei motorisierten Linearantrieben anzugehen und die Anwendbarkeit der optischen Profilometrie in verschiedenen Industrie- und Forschungsbereichen zu erweitern.
Die SPIE Optical Metrology, bekannt für die Präsentation modernster Fortschritte in der Photonik und verwandten Technologien, bietet eine ideale Plattform für Vilar und Zhukova, um ihre wegweisende Forschung mit der globalen wissenschaftlichen Gemeinschaft zu teilen. Sensofar würdigt ihre außergewöhnlichen Beiträge und freut sich auf die tiefgreifende Auswirkung, die ihre Arbeit im Bereich der Messtechnik haben wird.
